自中美贸易战爆发以来，晶片生产技术一直为各界焦点，例如内地电讯龙头中兴因一度遭美国"封杀"，几乎陷于没顶之灾。其后中国领导人不断呼吁科研人才开发"核心技术"，反复强调"大国重器"不能假手于人。
11月29日，中科院研制的"超分辨光刻装备"通过验收，光刻分辨力达到22纳米。部份内媒以〈国产光刻机伟大突破，国产晶片白菜化在即〉和〈厉害了我的国，新式光刻机将打破"晶片荒"〉之类为题，庆祝中国不再受制于人。然而《科技日报》12月2日刊文指出，这类报道只是一厢情愿。
报道指出，就晶片制作而言，光刻机作用在于"印刷"电路，就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部份。自光刻技术面世半个多世纪以来，为了节省能源和所需矽料，晶片愈做愈小，致使投影刻划难度愈来愈高，因而催生顶尖光刻机利用波长13.5纳米的极紫外光源，以刻划10纳米以下的线条。 旨在用便宜光源实现较高分辨率
要制造稳定而大功率的"极紫外光源"，报道指每个光源需耗资3000万元人民币。至于顶尖"极紫外光刻机"，更有一部卖一亿美金之誉，相关技术目前由荷兰ASML公司独家垄断。
有见及此，中科院研制光刻机旨在利用"表面等离子体"光刻法，在通行纳米光学技术外另辟蹊径，"用便宜光源实现较高的分辨率"。报道引述科学家杨勇解说箇中原理："拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。"
电磁波很弱、加工精度不足
不过这种这种电磁波很弱，需要"光刻胶"材料得凑近了，才能刻出来，且加工精度及不上市面"极紫外光刻机"，无法刻出几十纳米级的晶片。光电所专家便称，用于晶片需要攻克一系列技术难题，距离还很遥远。
报道更批评："有些传播者为吸引眼球、赚钱，最爱制造『自嗨文』和『吓尿体』。听到国产科技成就先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。"
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