向中国传回尖端技术 又有中国学者被捕

一名在日本工作的中国籍研究员涉嫌向一家中国公司泄露商业机密而被捕。示意图，图为警方封锁犯罪现场。(Jack Berman/Getty images)

一名在日本工作的中国籍研究员涉嫌向一家中国公司泄露商业机密，于周四（6月15日）被日本警方逮捕。

日本共同社报导，这名59岁的中国男子是茨城县（Tsukuba）筑波市（Tsukuba）日本国立研究开发法人——产业技术综合研究所（AIST）的一名中国籍研究员。他将研究有关氟化物合成的

尖端技术资料泄漏给中国企业，涉嫌违法。

日媒报导说，日本警方因国立研究机关资料外泄到中国而逮捕嫌犯，实属罕见。

2018年4月，据信这名男子将他在AIST研究的一种氟化合物合成先进技术通过电子邮件发给了一家中国企业。

该男子自2002年4月以来一直在AIST担任研究员。消息人士说，有一段时间他还在北京理工大学任教，北京理工大学是中共军方下属的“国防七子”之一。这七所高校已经全部因“国家安全之忧”被列入美国商务部的制裁清单。

斯坦福大学智库胡佛研究所2020年7月30日在一份报告中指出，一些例证表明来自军校的研究员一直试图隐瞒他们与中共国防机构之间的联系，“与此同时，一些中方论文合著者实际上参与过中共秘密武器研究计划。”

日本当局正在调查这名中国籍研究员与涉案中国公司之间的关系以及这些信息是如何被泄露的。警方周四进行了相关搜查，包括该男子在筑波的住所。

日本《反不正当竞争法》旨在促进公平竞争，禁止不当取得或公开因研究开发等所产生的商业秘密。近年来日本政府出于经济安全保障，正加强防范尖端技术泄漏至海外。

另据《金融时报》报导，本周二，一名65岁的三星电子前高管在韩国被捕并被起诉，罪名是涉嫌窃取三星的技术，以便在中国建立仿冒工厂。目前韩国正在加强防御，阻止中共获取韩国尖端技术。