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美国对中国芯片禁令不断收紧,中国中芯国际过去几个月似乎持续向高阶芯片迈进。不过,中国想实现芯片自给自足仍面临一些重大挑战,尤其是中芯无法买到艾司摩尔(ASML)EUV曝光机,仅能使用旧设备制造先进芯片,势必面临成本高及良率低等2大挑战,长期可行性存疑。
CNBC报道,专家认为,如果没有 EUV曝光机,中芯将很难制造7纳米及更小的芯片,若能生产,成本也很高。
报道指出,中芯使用旧设备制造先进芯片面临两大挑战,一是成本高,二是良率低、产量少。金融时报日前也引述消息人士的话称,中芯5纳米和7纳米制程芯片价格,比台积电高出40% 至50%。
印度智库Takshashila副所长科塔斯坦(Pranay Kotasthane)表示,中国政府与中芯应该会对先进芯片制程投入资金,随著新一代先进芯片的推出,成本将持续上升,除非中芯能够获得一台 ASML EUV曝光机。
科塔斯坦说,中芯或许会投入更多资金来克服当前的利润率问题,这项投资可能来自政府,因为此事攸关国家威信。不过,每当新一代芯片问世,中芯承担的成本只会更高。除非中国找到 EUV 的替代品,否则成本会不断增加。
专家认为,中国使用旧设备制造先进芯片,面临诸多挑战。
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