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《路透》日前披露,中国为突破美国半导体技术封锁,招揽ASML前工程师透过逆向工程,打造出制造先进半导体的EUV原型机,引起诸多议论。荷兰知名技术分析师接受专访指出,EUV是非常精密,配备德商蔡司(Carl Zeiss)的光学系统,需要很多企业偕同合作,中国是怎么做出EUV真是个谜。此外,ASML从原型机到商业化足足花了18年之久,中国还有很长的路要走。
荷兰半岛设备巨擘ASML,堪称该国的护国神山,近期因为路透披露,北京秘密进行“中国曼哈顿”计划,透过逆向工程,打造制造先进半导体的EUV原型机,并称,负责打造EUV原型机的ASML前工程师皆以变造的身分工作,目前因无法取得德商蔡司的光学系统,以至于该原型机大幅落后ASML EUV。
中国拼出EUV原型机的信息不仅引起半导体界议论,荷兰更是关注真实性,以及对ASML是否构成挑战。荷媒《电讯报》(De Telegraaf)特别专访荷兰咨询机构Insinger Gilissen对半导体设备领域熟悉的分析师伏斯蒂格(Jos Versteeg)发表看法。
伏斯蒂格指出,ASML早在2001年就打造出EUV原型机,直到2019年才商业化,足足花了18年之久,所以中国人还有很长的路要走。
被问及中国可能延揽许多人才,是否会加速EUV商业化进展?伏斯蒂格强调,除了人才,还需要硬体及大量软体,中国目前手上只有旧机器零件,根本没有EUV所需的软体,或者说是未经授权,永远也无法打进全球市场。
他直指,中国在全球半导体市场的市占率主要是成熟制程芯片,并开玩笑地说“这是给汽车雨刷用的处理器”。倘若中国要用自己的设备来生产半导体,效率也不及ASML的设备,中国唯一放这些设备的地方就是用于科学研究,或用于国防工业之类。鉴于ASML从没有将这些高阶设备卖给中国,加上ASML的设备可以生产出成本更低的芯片,不担心中国超越ASML。
日本知名半导体产业观察家“Takeshi Hattori”也在社交媒体X上发表看法,他表示,对于中国打造出EUV原型机一事,真实程度仍不明朗。不过,中国华为过去确实曾从ASML 和Nikon 挖角工程师。

路透日前披露,中国透过逆向工程打造出类似ASML的EUV设备,专家认为这件事还有很多谜团待解。 (路透)
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