中国芯片技术落后西方15年?半导体大厂CEO曝内幕

荷兰半导体微影设备大厂艾司摩尔（ASML）执行长富凯（Christophe Fouquet）日前表示，由于美国对陆禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，导致中国无法获得尖端曝光机，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国芯片技术将落后西方10年或15年。

荷兰“新鹿特丹报”（NRC）报道，富凯指出，禁令确实会产生影响，毕竟ASML是一家私营企业。

他指出，不仅是美国，每个人都低估了经营一家成功的芯片工厂所需的条件，“你需要的不仅是钱，而且你必须投资于研究，不断学习和尝试，这需要数年时间。”

先前富凯还表示，世界需要中国生产的“传统芯片”，将填补欧洲的供需缺口，尤其中国厂商不可能造出先进曝光系统。

今年10月16日，ASML发布2024财年第三季度财报显示，销售额为75亿欧元，高于预期目标，这主要得益于DUV曝光系统销售和装机售后服务的增加，该季度毛利率为50.8%，低于上一季度，净利润21亿欧元。

其中，中国仍然是ASML的最大市场，占今年第三季度销售额的47%，达27.9亿欧元。

ASML预计，半导体市场的复苏进程比先前的预期缓慢，2024年第4季ASML的销售额将达88亿到92亿欧元之间，毛利率介于49%到50%，其中包括经客户验收后首次确认收入的两台高数值孔径极紫外光（High NA EUV）曝光机。因此2024年全年，ASML的销售额为280亿欧元左右。

预计到2025年，ASML总净销售额将增长到300亿到350亿欧元之间（先前指引为300到400亿欧元），毛利率介于51%到53%之间，远低于先前公司预测值。

富凯表示， ASML拥有令人难以置信的市场地位，但也为此付出了代价：关注和外部压力。这一点将继续存在，中国、美国以及每个政府都将ASML视为拼图中的关键部分。

富凯强调，“如果剩下几个大公司，对创新来说会更好。我毫不怀疑三星将会复苏。竞争对手也希望看到英特尔再次表现出色。但如果犯的错误太多，就很难联系起来。英特尔的复苏对美国具有重要的战略意义。这是他们能够继续自己制造先进芯片的唯一途径。”

ASML在全球芯片供应链中占据重要地位，世界上几乎90%的芯片，都是由ASML曝光系统生产。在半导体制造行业，深紫外（DUV）曝光机，可以用于制造7奈米及以上制程的芯片，涵盖了大部分数位芯片和几乎所有的类比芯片。

随著先进制程向5奈米及以下进化，EUV成为未来曝光技术和先进制程的核心，主要用于7奈米及以下先进芯片制造工艺，荷兰ASML是唯一的供应商。自1988年交付首台步进式（stepper）曝光机以来，今年是ASML深耕中国市场的第36年。

2024年1月2日，ASML发布声明称，荷兰政府部分撤销先前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i曝光机在2023年发货的出口许可证，这将对ASML在中国的个别客户产生影响。