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荷兰半导体微影设备大厂艾司摩尔(ASML)执行长富凯(Christophe Fouquet)日前表示,由于美国对陆禁止出口极紫外光(EUV)曝光设备,导致中国无法获得尖端曝光机,与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比,中国芯片技术将落后西方10年或15年。
荷兰“新鹿特丹报”(NRC)报道,富凯指出,禁令确实会产生影响,毕竟ASML是一家私营企业。
他指出,不仅是美国,每个人都低估了经营一家成功的芯片工厂所需的条件,“你需要的不仅是钱,而且你必须投资于研究,不断学习和尝试,这需要数年时间。”
先前富凯还表示,世界需要中国生产的“传统芯片”,将填补欧洲的供需缺口,尤其中国厂商不可能造出先进曝光系统。
今年10月16日,ASML发布2024财年第三季度财报显示,销售额为75亿欧元,高于预期目标,这主要得益于DUV曝光系统销售和装机售后服务的增加,该季度毛利率为50.8%,低于上一季度,净利润21亿欧元。
其中,中国仍然是ASML的最大市场,占今年第三季度销售额的47%,达27.9亿欧元。
ASML预计,半导体市场的复苏进程比先前的预期缓慢,2024年第4季ASML的销售额将达88亿到92亿欧元之间,毛利率介于49%到50%,其中包括经客户验收后首次确认收入的两台高数值孔径极紫外光(High NA EUV)曝光机。因此2024年全年,ASML的销售额为280亿欧元左右。
预计到2025年,ASML总净销售额将增长到300亿到350亿欧元之间(先前指引为300到400亿欧元),毛利率介于51%到53%之间,远低于先前公司预测值。
富凯表示, ASML拥有令人难以置信的市场地位,但也为此付出了代价:关注和外部压力。这一点将继续存在,中国、美国以及每个政府都将ASML视为拼图中的关键部分。
富凯强调,“如果剩下几个大公司,对创新来说会更好。我毫不怀疑三星将会复苏。竞争对手也希望看到英特尔再次表现出色。但如果犯的错误太多,就很难联系起来。英特尔的复苏对美国具有重要的战略意义。这是他们能够继续自己制造先进芯片的唯一途径。”
ASML在全球芯片供应链中占据重要地位,世界上几乎90%的芯片,都是由ASML曝光系统生产。在半导体制造行业,深紫外(DUV)曝光机,可以用于制造7奈米及以上制程的芯片,涵盖了大部分数位芯片和几乎所有的类比芯片。
随著先进制程向5奈米及以下进化,EUV成为未来曝光技术和先进制程的核心,主要用于7奈米及以下先进芯片制造工艺,荷兰ASML是唯一的供应商。自1988年交付首台步进式(stepper)曝光机以来,今年是ASML深耕中国市场的第36年。
2024年1月2日,ASML发布声明称,荷兰政府部分撤销先前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i曝光机在2023年发货的出口许可证,这将对ASML在中国的个别客户产生影响。
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