已有证据？美方忧心：这一顶尖设备已流入中国

阿斯麦公司在发给路透社的声明中表示，该公司“从未向中国发运过EUV设备，也未曾向中国发运过任何专门设计用于EUV设备的组件、模块或设备。”

此前彭博社报道称，美国商务部长卢特尼克在一系列会议上向阿斯麦高层表达了担忧，称该公司一款先进的极紫外光刻机可能已经流入中国，这违反了美国主导的出口限制。

报道引述美国官员称，他们掌握有证据，证明阿斯麦曾向中国出口用于运输EUV的专用设备，以及其他可用于EUV的组件，但这些出口证据过于敏感，无法披露。

阿斯麦表示，已驳回有关其违反针对中国的出口管制

规定的指控，并补充称，公司“始终根据出口管制的任何变化调整业务，以符合各项新规”。

荷兰外交部在一份电子邮件声明中表示：“在半导体制造设备的出口方面，荷兰依据欧盟《两用物项条例》及本国额外采取的措施，遵循明确的规则和管制清单进行管理。”

EUV“无法拆卸、运输和重新安置”

今年4月，美国国会提出一项法案，要求荷兰和日本等盟友遵守美国出口管制措施，防止中国获取先进芯片制造设备。这项法案在EUV对华全面禁售的基础上，将浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备也纳入全面限制。

阿斯麦今年1月预计，公司今年在中国市场的销售额占比为20%，较去年的33%明显减少。按中国海关总署的数据统计，中国今年首季从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。

知情者对彭博社透露，在4月与卢特尼克会面后，阿斯麦公司起草了一份题为“无迹象表明中国境内存在任何阿斯麦EUV”的文件。

文件称，目前全球共有314台EUV光刻机在运行，26台已退役，而中国境内没有任何一台；阿斯麦能够自动检测其EUV产品组合中的“任何中断、异常行为或连接中断”，并且由于“特殊操作规程”，客户“未经阿斯麦参与，无法拆卸、运输和重新安置EUV”。

路透社去年12月报道称，中国科学家已开发出一款极紫外光刻设备原型机，该设备由一支由阿斯麦前工程师组成的团队打造；这一项目被形容为中国版的“曼哈顿计划”。