移民条例苛刻：美国面临“人才倒流”

在美国申请专利权的外国人过去10年增加了两倍，不过，美国严格限制对外国人发出永久居留签证的数额，可能迫使这些企业家转而到中国、印度或其他国家寻求发展。

美国哈佛大学、杜克大学和纽约大学的研究员昨天发表报告，对国际专利权申请趋势进行了分析。他们指出，如果美国不对移民条例进行改革，拥有技能的外国人将离开美国，造成“人才倒流”的现象，美国的竞争力也将因此被削弱。

这支研究小组成立了一个数据库，收集在1998年至2006年，向世界知识产权组织申请专利权的发明家的资料。

他们在报告中指出，在1998年，有7.3%的外国人自美国发出专利权申请；到了2006年，这个数字增加了两倍至24.2%。

其中，来自科技中心如加利福尼亚的申请最多，在2006年占了全美专利权申请的三分之一；在芯片制造商高通（Qualcomm）和制药公司默克（Merck & Co）工作的外国人，提出的专利权申请占了至少65%。美国政府属下机构发出的申请当中，有41%是外国人提出的。

尽管申请专利权的外国人增加，美国每年仍把给予杰出人才的EB签证限制在12万120张，对个别国家发出的签证也限制在8400张。

该报告指出，去年有100多万外国人仍在等候获得美国永久居留，其中一半是拥有高技能的移民。

研究员说，随着印度和中国经济蓬勃发展，这些企业家有的是发展机会；而在他们的祖国，屋价也许比美国低，地点也更靠近他们的亲友。

他们指出，美国必须做的是显著增加给予这些人才的永久居留签证，以免他们外流到其他国家。