南华早报报道，尽管中国在半导体自主目标上近期取得进展，但美国政府升高出口管制，锁定较不先进的曝光机，暴露中国芯片生产设备的缺陷。
报道说，拜登政府以国安疑虑为由，收紧去年10月发布的出口法规，以期透过切断中国从艾司摩尔（ASML）取得较不先进的芯片生产设备，以及从辉达取得数据中心芯片，来阻绝中国的人工智慧发展。
在美国商务部工业安全局长达121页详述新版芯片设备出口管制的文件中，废除了适用于特定曝光机的“微量原则”（De minimis Rule），该原则设定的实际门槛高于荷兰政府6月公佈的出口规范，此举将限制荷商艾司摩尔向中国出口包括Twinscan NXT1980Di在内的深紫外光机（DUV）。
市场分析公司Counterpoint Research分析师王哲宏（Brady Wang）指出，如果中国没有可用的在地替代设备，而1980Di又被排除在外，“将重创先进以及成熟节点”。
微量原则赋予华府对于任何非美公司生产的产品，若包含至少25%美国原产技术，有长臂管辖权力。然而，对该法规最新的调整，基本上使美国原产技术的比例无关紧要。
中国国银律师事务所Dennis Lu说，“这意味光刻机（曝光机）系统，包括艾司摩尔与其他公司生产的设备，一旦达到美国特定参数，无论美国原产技术比例多少，都将受到美国出口管制规范”。
美国收紧芯片设备出口管制，禁止艾司摩尔对中国出口Twinscan NXT1980Di深紫外光机。（路透）
艾司摩尔2015年推出的1980Di已成为许多中国晶圆厂的主力设备，其每小时可处理275片晶圆，从40奈米成熟製程到先进的次10奈米（sub-10-nm）芯片都能够处理，根据消息人士提供的文件，美国最新版出口管制文件已删除对次10奈米技术的提及。
中国维科网也指出，1980Di将是荷兰出口禁令的最后漏洞，因为1980Di是目前中国能买到最先进的曝光机，其他比1980Di先进的都无法购买，在实际应用中，1980Di可用于生产7奈米芯片，据悉台积电的第一代7奈米製程就是基于1980Di实现的，之后才升级使用极紫外光机（EUV）。
该报道说，1980Di是美国芯片管制唯一的漏洞，因为这台曝光机最高可支持7奈米製程，因此多数情况下也能生产28奈米、14奈米芯片，中国先进芯片的生产没有完全被卡死。
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