美国目前在高端芯片曝光设备上高度依赖ASML，因缺乏本土可比技术。如今美国芯片产业可能迎来重大变革，新创公司Substrate决定进军全球芯片曝光机市场。
路透、金融时报等媒体报道，Substrate计划打破对ASML的依赖，研发能与ASML极紫外光（EUV）设备相媲美的光刻机，但采用不同方式：利用粒子加速器产生短波长X射线，而非传统EUV光源。
Substrate希望提供美国国内替代方案，强化芯片制造自主性，并声称其技术能降低使用ASML设备的成本。公司已完成技术展示，其X射线光刻技术波长比EUV短，可实现更稳定的多重曝光，结合稳健的光罩与光阻流程，大幅降低芯片曝光成本。
Substrate提到，其新型芯片制造设备能印制12奈米级电路图案，性能接近ASML最新高数值孔径EUV机台。相比之下，ASML的设备全球唯一可大规模生产最先进芯片，单台售价超过4亿美元，而Substrate的X射线光刻技术不仅解析度高，设备体积更小、成本更低，已在美国国家实验室完成技术演示，但具体细节尚未公开，也未获第三方独立验证。
挑战台积电、ASML
Substrate创办人兼执行长普劳德（James Proud）表示，公司目标不仅是设备制造，还计划在美国建立芯片代工厂，直接挑战台积电，生产最先进的人工智慧芯片。他强调，要以最低成本、大规模生产高品质晶圆，打破ASML与台积电形成的双重垄断。
然而Substrate挑战依然巨大，ASML的技术是数十年与数百亿美元累积而来，建立先进芯片厂需超过150亿美元投资，并面临台积电、英特尔、三星等巨头的技术竞争。产业分析师认为，如果Substrate成功降低芯片成本，其影响可能如SpaceX降低火箭发射成本般，引发半导体产业的连锁变化。
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