陆媒渲染光刻机重大突破？业界专家驳斥

　　美中科技战持续，近期中共媒体不停渲染半导体设备–光刻机，有所谓“重大突破”，但曾经担任紫光前台籍干部的业内专家薛宗智接受采访指出，中国业界盛行谎言，直指光刻机良率品质，要追上ASML，少说还要20年。

　　美中科技角力下，各国管制光刻机出口中国，近期陆媒却高调宣传，成功制作出13.5纳米的极紫外光技术，宣扬“国产EUV光刻机重大突破”，但业内人士，直接反驳。

　　新创公司创办人薛宗智坦言：“全世界只有艾斯摩尔做得出来，原因很简单，就是这个专业在人家手上，EUV是所有设备里面，因为它只用在3纳米5纳米，太难了。 它要做到荷兰ASML（的程度）至少还要再20年。”

　　曾任台积电采购经理、前中国紫光集团高阶主管的的薛宗智指出，EUV光刻机，涉及复杂光学原理、数万种模组模型，现行仅荷兰ASML，掌握了关键数据，并与台积电、英特尔的大厂合作不断优化制程，换言之，中企的“重大突破”多数是假大空。

　　薛宗智：“那你想想看我们这些客人，会去买你中国的EUV吗？答案是不会。它（中企）即便是去应征了，这个美商应材离职的高管，那个品质还是不一样。”

　　陆企中芯国际宣称制程达7纳米，微博上疯传中芯5纳米良率，冲到60%至70%，薛宗智踢爆，中国半导体行业，到处是谎言。

　　薛宗智表示，“那当时的7奈米其实都是假的，因为我们知道它怎么做的，那良率非常差，然后那个寿命非常短。所以你只要看到它会发新闻的都是假的，因为中共的方式，喜欢敲锣打鼓，说它有多厉害。所以我每次人来问我说真的假的？我说你只要在新闻上看到都是假的。”

　　中国紫光集团，2015年曾来台高调要并购台积电，但公司2021破产，薛宗智日前表示，中共体制下的半导体公司，高层贪腐严重，盛行浮夸剽窃，金玉其外败絮其中，他决定离开紫光，自行创立公司，强调完全不做中国市场生意。

（示意图）