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1纳米制程竞赛提前开打,对于生产设备的需求,自然也更精进要求,但造价也是所费不赀。 《彭博》报道,台积电(TSMC) 认为艾司摩尔 (ASML)最新先进芯片制造设备价格令人“望而却步”,因此并未透露何时开始购买。
相较于手握多位大客户仍审慎评估的台积电,竞争对手英特尔则包下ASML高阶EUV产能,直到明年上半年,预计今年12月底第一台机器将运送到俄勒冈州的一家工厂。
ASML先前指出,目前的技术创新足够将芯片的制程推进至少1纳米节点。 曝光系统分辨率的改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步实现缩小芯片尺寸。
台积电业务开发资深副总裁张晓强 (Kevin Zhang) 周二在阿姆斯特丹的科技研讨会上指出,“我喜欢High-NA EUV的性能,但我不喜欢它的价格,成本非常高。”
台积电认为,以现有的EUV能力,A16节点技术将于2026年底推出,无需使用ASML的高数值孔径EUV机器。 (路透)
张晓强表示,使用新的ASML技术,将取决于其经济意义和我们可以实现的技术平衡。 他说,台积电所谓的A16节点技术将于2026年底推出,无需使用ASML的高数值孔径EUV机器。 我们可以继续依赖台积电较旧的极紫外线设备。
张晓强强调,目前台积电现有的EUV能力,应该能够支持这一点。
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